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DLS技術(shù)在納米粒徑分析儀中的應(yīng)用

 更新時間:2019-05-20  點擊量:6723
Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。

DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面,從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強度,散射強度隨時間不斷波動,二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴散現(xiàn)象(或布朗運動)導(dǎo)致光強不斷波動。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數(shù)(Particle size distribution, PSD)。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個指數(shù)衰減函數(shù),由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴散率。終,粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯(Stokes-Einstein)方程式計算得到。
 
大部分樣品一般都不均勻,往往會呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài),即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會比較大,直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成,每一個指數(shù)衰減函數(shù)都會因指數(shù)衰減時間不同而存在差異,此時計算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。
 
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù),從而得出接近真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系,利用一組*的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式,這種去卷積分析方法,即得到PSS粒度儀公司*的粒徑分布表達方法-Nicomp分布(Nicomp Distribution)。
 
 
 
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